| 特徴 | 半導体ウェハ上の銅スパッタ膜のエッチング剤です。 ① 処理液は酸性で、銅エッチングに使用可能です。 ② ハロゲンおよびナトリウムを含みません。 ③ 浸漬処理した場合、標準作業条件において約750 nm/minのエッチング速度が得られます。 |
|---|---|
| メーカー名 | メルテックス株式会社 |
| メーカーURL | https://www.meltex.com/products_search/item_14 |
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| 特徴 | 半導体ウェハ上の銅スパッタ膜のエッチング剤です。 ① 処理液は酸性で、銅エッチングに使用可能です。 ② ハロゲンおよびナトリウムを含みません。 ③ 浸漬処理した場合、標準作業条件において約750 nm/minのエッチング速度が得られます。 |
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| メーカー名 | メルテックス株式会社 |
| メーカーURL | https://www.meltex.com/products_search/item_14 |
