| 特徴 | 半導体ウェハ上のチタンスパッタ膜のエッチング剤です。 ① 過酸化水素別添のアルカリ性チタンエッチング剤です。 ② 標準条件(浸漬エッチング) 25 ℃において約30 nm/min、40 ℃において約85 nm/minのエッチング速度が得られます。 ③ 標準条件において、銅、アルミニウム、はんだおよび鉛フリーはんだを殆ど腐食せずに選択的なエッチングが可能です。 ④ 環境に有害な物質を使用していません。 |
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| メーカー名 | メルテックス株式会社 |
| メーカーURL | https://www.meltex.com/products_search/item_16 |
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