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エコ対応品

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ウェハー用

上村工業株式会社
エピタス MCL-16
エピタス MCL-16
概要

純アルミニウムまたはアルミニウム合金パッド用

用途
ウェハー用
上村工業株式会社
エピタス MPU-2
エピタス MPU-2
概要

銅パッド用

用途
ウェハー用
メルテックス株式会社
メルストリップ CU-3931
メルストリップ CU-3931
概要

半導体ウェハ銅スパッタ膜エッチング剤

用途
半導体ウェハ銅スパッタ膜エッチング剤
ハロゲンフリー
ナトリウムフリー
メルテックス株式会社
メルストリップ TI-3991
メルストリップ TI-3991
概要

半導体ウェハ チタンスパッタ膜エッチング剤

用途
半導体ウェハ チタンスパッタ膜エッチング剤
環境ホルモンフリー
メルテックス株式会社
メルクリーナー SC-7002
メルクリーナー SC-7002
概要

半導体アルミニウム電極用洗浄剤

用途
半導体アルミニウム電極上への無電解UBM形成プロセス
上村工業株式会社
エピタス MCT-14
エピタス MCT-14
概要

銅パッド用

用途
ウェハー用
メルテックス株式会社
メルプレート コンディショナー 7230
メルプレート コンディショナー 7230
概要

半導体アルミニウム電極用コンディショナー

用途
半導体アルミニウム電極上への無電解UBM形成プロセス
上村工業株式会社
エピタス MCL-10
エピタス MCL-10
概要

銅パッド用

用途
ウェハー用
日進化成株式会社
ケミゴールド
ケミゴールド
概要

金めっき液

用途
半導体,電子部品
上村工業株式会社
エピタス LEC-18
エピタス LEC-18
概要

純アルミニウムまたはアルミニウム合金パッド用

用途
ウェハー用
上村工業株式会社
エピタス LEC-40
エピタス LEC-40
概要

純アルミニウムまたはアルミニウム合金パッド用

用途
ウェハー用
上村工業株式会社
エピタス EDL-02
エピタス EDL-02
概要

微細パターンへのコンフォーマルめっき(RDL用)

用途
電解銅めっき-ウェハー用硫酸銅めっき添加剤
上村工業株式会社
エピタス NPR-18
エピタス NPR-18
概要

ウェハー

用途
無電解ニッケルめっき-Ni-Pめっき
上村工業株式会社
エピタス NPR-24
エピタス NPR-24
概要

小径パッドウェハー

用途
無電解ニッケルめっき-Ni-Pめっき
上村工業株式会社
エピタス KSB-18
エピタス KSB-18
概要

ウェハー

用途
無電解ニッケルめっき-鉛フリーNi-Pめっき
鉛フリー
上村工業株式会社
エピタス KSB-33
エピタス KSB-33
概要

ロジックデバイス等、小径パッドウェハー

用途
無電解ニッケルめっき-鉛フリーNi-Pめっき
鉛フリー
上村工業株式会社
エピタス TDS-20
エピタス TDS-20
概要

ウェハー

用途
めっき薬品-金めっき-ウェハー用無電解金めっき
シアンフリー
上村工業株式会社
エピタス TDS-25
エピタス TDS-25
概要

ウェハー

用途
めっき薬品-金めっき-ウェハー用無電解金めっき
シアンフリー
上村工業株式会社
エピタス TFP-30
エピタス TFP-30
概要

ウェハー

用途
ウェハー用無電解パラジウムめっき
上村工業株式会社
エピタス TFP-25
エピタス TFP-25
概要

ウェハー

用途
ウェハー用無電解パラジウムめっき
上村工業株式会社
エルスタナー GKH-66
エルスタナー GKH-66
概要

バンプ形成用のすず浴

用途
すずめっき
上村工業株式会社
エピタス MCT-51
エピタス MCT-51
概要

純アルミニウムまたはアルミニウム合金パッド用

用途
ウェハー用
上村工業株式会社
エピタス LNA-50
エピタス LNA-50
概要

純アルミニウムまたはアルミニウム合金パッド用

用途
ウェハー用
メルテックス株式会社
メルプレート E-7121
メルプレート E-7121
概要

半導体アルミニウム電極用アルカリ性エッチング液

用途
半導体アルミニウム電極上への無電解UBM形成プロセス
メルテックス株式会社
メルプレート Pal-6500
メルプレート Pal-6500
概要

UBM形成プロセス用還元型無電解パラジウムめっき液

用途
半導体アルミニウム電極上への無電解UBM形成プロセス
メルテックス株式会社
メルプレート AU-7770
メルプレート AU-7770
概要

UBM形成プロセス用ノーシアンタイプ置換金めっき液

用途
半導体アルミニウム電極上への無電解UBM形成プロセス
シアンフリー
メルテックス株式会社
メルクリーナー SC-7050M
メルクリーナー SC-7050M
概要

バンピング・RDL用エッチング剤

用途
銅酸化膜除去剤
石原ケミカル株式会社
W25プロセス
W25プロセス
概要

ウェハバンプ用

用途
ウェハ用銅めっき
石原ケミカル株式会社
NPL-110
NPL-110
概要

ウェハバンプ用

用途
ウェハバンプ用めっき,Niめっき
石原ケミカル株式会社
UTB TS-140
UTB TS-140
概要

ウェハバンプ用

用途
ウェハバンプ用めっき,Sn-Agめっき
鉛フリー
石原ケミカル株式会社
UTB TS-202
UTB TS-202
概要

ウェハバンプ用

用途
ウェハバンプ用めっき,Sn-Agめっき
鉛フリー
石原ケミカル株式会社
UTB TS-507
UTB TS-507
概要

ウェハバンプ用

用途
ウェハバンプ用めっき,Sn-Agめっき
鉛フリー
メルテックス株式会社
メルプレート AU-7621
メルプレート AU-7621
概要

UBM形成プロセス用ノーシアンタイプ置換金めっき液

用途
半導体アルミニウム電極上への無電解UBM形成プロセス
シアンフリー
メルテックス株式会社
メルプレート FZ-7350
メルプレート FZ-7350
概要

半導体アルミニウム電極用第1ジンケート液

用途
半導体アルミニウム電極上への無電解UBM形成プロセス
メルテックス株式会社
メルプレート FBZ
メルプレート FBZ
概要

半導体アルミニウム電極用第2ジンケート液

用途
半導体アルミニウム電極上への無電解UBM形成プロセス
メルテックス株式会社
メルプレート NI-869
メルプレート NI-869
概要

UBM形成用無電解ニッケルめっき液

用途
半導体アルミニウム電極上への無電解UBM形成プロセス
メルテックス株式会社
メルプレート NI-869A
メルプレート NI-869A
概要

UBM形成用無電解ニッケルめっき液

用途
半導体アルミニウム電極上への無電解UBM形成プロセス
低リン
株式会社JCU
BU2HA
BU2HA
概要

硫酸銅めっき-再配線・バンプ用

用途
半導体ウェハ用めっき処理薬品
株式会社JCU
XP-CS
XP-CS
概要

硫酸銅めっき-微細配線・バンプ用

用途
半導体ウェハ用めっき処理薬品
硫黄フリー
株式会社JCU
エバソルダBUII
エバソルダBUII
概要

錫めっき-バンプ用

用途
半導体ウェハ用めっき処理薬品
株式会社JCU
BNI
BNI
概要

ニッケルめっき-バリア層

用途
半導体ウェハ用めっき処理薬品
株式会社JCU
JSOLDER BUHD
JSOLDER BUHD
概要

錫・銀めっき-バンプ用

用途
半導体ウェハ用めっき処理薬品
株式会社ワールドメタル
リンデンNZ
リンデンNZ
概要

特殊用途 無電解ニッケルめっき薬品(Ni-P)

用途
EMI電磁波シールド
電池電極
ウレタン
ABS
シリコンウエハー
低温